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Intel : passera à la nouvelle technologie de transistor Gate-All-Around (GAA)

Après les difficultés de production du 10nm, Intel veut trouver d'autres moyens de rester compétitif sur le marché des processeurs.


Σla conférence VLSI 2020 ο CTO (Directeur technique) d'Intel Mike Mayberry a évoqué le "Future of Compute", un problème majeur qui devrait concerner l'entreprise dans les années à venir.

On parle pratiquement de la transition d'Intel de sa conception classique transistor (FinFET), où nous avons affaire à un alignement tridimensionnel de ceux-ci, dans un tout nouveau, créant ainsi de nouveaux produits révolutionnaires.

L'une des questions à la fin de la conférence portait sur l'avenir de la technologie et il Mayberry Il a dit qu'il s'attend à ce que les transistors de type nanofil entrent en production dans cinq ans, mais ce n'est pas quelque chose qui peut offrir une date de sortie spécifique.

En collaboration avec d'autres grandes entreprises du domaine telles que Samsung, Intel procédera à de nouvelles méthodes de fabrication révolutionnaires. Mais avant ça, il confirme qu'en 2021 on verra leur entrée 10nm + ainsi qu'un nouveau nœud, celui de 7nm apparaitre dans fiches produits avec des aspirations pour une libération plus tard dans l'année.

Ce qui occupera Intel, comme d'autres sociétés de transistors, c'est le design Porte-All-Around (GAA) qui comprend des ailettes de transistor "presque" flottantes avec leur principal positif, étant la petite taille.

Ceci, ainsi que d'autres points positifs comme la plus grande échelle qu'il peut offrir par rapport à FinFET fera des transistors GAA la prochaine grande étape pour Intel, sur laquelle d'autres sociétés s'appuieront dans un avenir proche.

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